1. التركيب الكيميائي (التمييز الأساسي)
C11000: محتوى الأكسجين المنخفض جدًا- (<0.001%) and no intentional alloying elements. Impurities (Fe, Pb, Zn, Ni) are strictly controlled to ensure purity.
C12200: يُسمى أيضًا "النحاس الفوسفور- منزوع الأكسدة" أو "نحاس DHP" (الفوسفور العالي منزوع الأكسدة). تتم إضافة الفوسفور لإزالة الأكسجين أثناء الصهر، مما يؤدي إلى محتوى أكسجين معتدل (0.02-0.04٪).
2. تصنيف محتوى الأكسجين والخصائص ذات الصلة
خطر التقصف الهيدروجيني:
C11000: مقاوم لتقصف الهيدروجين، مما يجعله مناسبًا -للفراغ ذي درجة الحرارة العالية أو التطبيقات التي تحتوي على الهيدروجين-(على سبيل المثال، الأنابيب المفرغة، ومعدات أشباه الموصلات).
C12200: Vulnerable to hydrogen embrittlement if exposed to hydrogen at temperatures >300 درجة (على سبيل المثال، في المبادلات الحرارية التي تحتوي على غاز الهيدروجين)، حيث لا يستطيع الفوسفور التخلص تمامًا من المخاطر المرتبطة بالأكسجين-في الظروف القاسية.
3. الخصائص الميكانيكية والفيزيائية
الوجبات السريعة الرئيسية:
C11000 لديهالموصلية الكهربائية/الحرارية أفضلنظرًا لنقاوته العالي ومحتوى الأكسجين المنخفض-المنخفض جدًا-وهو أمر بالغ الأهمية للتطبيقات التي تتطلب الحد الأقصى من نقل الطاقة (على سبيل المثال، الموصلات الكهربائية، وأشرطة التوصيل).
عروض C12200قوة وصلابة أعلى قليلاًبسبب وجود الفوسفور، مما يجعله أكثر متانة في تطبيقات الضغط الميكانيكي (مثل تركيبات السباكة والصمامات).


4. المعالجة والتصنيع
5. الامتثال للمعايير
6. التطبيقات النموذجية (خاصة بالصناعة-)
7. التكلفة والتوافر
C11000: تكلفة أعلى بسبب عمليات الصهر الأكثر صرامة (إنتاج خالي من الأكسجين-) ومتطلبات النقاء. تتوفر عادةً في أشكال متخصصة (على سبيل المثال،-ألواح رفيعة جدًا، وأسلاك دقيقة) للتطبيقات عالية الأداء-.
C12200: تكلفة أقل ومتاحة على نطاق أوسع (النحاس التجاري القياسي). يُفضل استخدامه في تطبيقات الأغراض العامة- حيث لا يتطلب الحد الأقصى من الموصلية أو مقاومة الهيدروجين.







